ข้อมูลผลิตภัณฑ์

สารเคลือบผิวชิ้นส่วนอิเล็กทรอนิกส์

METASU SNV-200A1/B1

สารเคลือบเงาชุบดีบุกเงาอ่างกรดซัลฟิวริก

กระบวนการ METASUSNV-200A1/B1 เป็นสารเคลือบเงาสำหรับชุบดีบุกเงาปราศจากฟลูออบอเรท

＜คุณลักษณะพิเศษ＞
・สามารถใช้งานกับดีบุกบริสุทธิ์ได้
・มีประสิทธิภาพในการชุบเคลือบเงาอย่างยอดเยี่ยม สามารถใช้งานแบบ Rack, Barrel ได้
・ให้ฟิล์มเคลือบผิวชุบที่มีความเงาด้วยขอบข่ายความหนาแน่นกระแสที่มีให้เลือกอย่างหลากหลาย
・ไม่มีส่วนผสมของสารฟลูออบอเรท, ฟอร์มาลีน
・สามารถใช้งานเป็นน้ำมันเงาสำหรับชุบดีบุกกรดอินทรีย์ได้

ข้อมูลจำเพาะผลิตภัณฑ์

เงื่อนไขการใช้งาน
(มาตรฐาน)		 หัวข้อ ควาเข้มข้นการเตรียมน้ำยาชุบของอ่างชุบไฟฟ้า ความเข้มข้นควบคุม
組成 กรดซัลฟิวริก 98％ 184 g/L 100－250 g/L
สแตนนัส ซัลเฟต
(ดีบุกโลหะ)		 20 g/L
(11 g/L)		 15－25 g/L
（8－13 g/L）
METASUSNV-200A1 30 ml/L 25－35 ml/L
METASUSNV-200B1 1 ml/L 0.5－1.5 ml/L
条件 อุณหภูมิอ่าง 20℃　（10-25℃）
ความหนาแน่นกระแส 0.2－4 A/dm2
ขั้วอาโนด ดีบุกบริสุทธิ์สูง　（แนะนำ 99.99％ ขึ้นไป）
กวนผสม หมุนเวียนปั๊ม, รันนิ่งวัสดุ
กรอง กรองต่อเนื่องด้วยตัวกรอง 1－5μm

＊สามารถกำหนดเงื่อนไขให้ตรงกับวิธีใช้งานได้

 ติดต่อสอบถาม

ติดต่อสอบถามเกี่ยวกับการรับเคลือบผิว

กรุณาติดต่อสอบถามเราหากท่านมีคำถามหรือต้องการขอคำปรึกษาเกี่ยวกับข้อมูลจำเพาะ, กำหนดส่งงาน, ราคา ฯลฯ ของการรับเคลือบผิว