ข้อมูลผลิตภัณฑ์

สารเคลือบผิวชิ้นส่วนอิเล็กทรอนิกส์

METASU SNV-200A/B

สารเคลือบเงาชุบดีบุกเงาอ่างกรดซัลฟิวริก

กระบวนการ METASUSNV-200A/B เป็นสารเคลือบเงาชุบดีบุกเงาสำหรับความเร็วสูงที่พัฒนาขึ้นสำหรับการชุบเคลือบปราศจาก Pb

＜คุณลักษณะพิเศษ＞
・ให้คุณภาพพื้นผิวมันเงาอย่างสม่ำเสมอเท่ากันด้วยขอบข่ายความหนาแน่นกระแสที่มีให้เลือกอย่างหลากหลาย
・สีเปลี่ยนภายหลังการรีโฟลว์เกิดขึ้นน้อย มีคุณลักษณะที่คงตัว
・มีประสิทธิภาพลดฟองสูง เหมาะสำหรับการชุบเฉพาะส่วน

ข้อมูลจำเพาะผลิตภัณฑ์

เงื่อนไขการใช้งาน
(มาตรฐาน)		 หัวข้อ ความเข้มข้นการเตรียมน้ำยาชุบของอ่างชุบไฟฟ้า ความเข้มข้นควบคุม
สารประกอบ METASUAM 93 ml/L
(ความเข้มข้นในอ่าง：120 ml/L）		 80－160 ml/L
METASUSM-2 225 ml/L
(Sn ：45 g/L）		 Sn：30－60 g/L
METASUSNV-200A 60 ml/L 40－80 ml/L
METASUSNV-200B 30 ml/L 10－45 ml/L
เงื่อนไข อุณหภูมิอ่าง 25℃　（20-30℃）
ความหนาแน่นกระแส 5－20 ASD
ขั้วอาโนด ดีบุกบริสุทธิ์สูง　（แนะนำ 99.99％ ขึ้นไป）
กวนผสม หมุนเวียนปั๊ม, รันนิ่งวัสดุ
กรอง กรองต่อเนื่องด้วยตัวกรอง 1－5μm

＊สามารถกำหนดเงื่อนไขให้ตรงกับวิธีใช้งานได้

 ติดต่อสอบถาม

ติดต่อสอบถามเกี่ยวกับการรับเคลือบผิว

กรุณาติดต่อสอบถามเราหากท่านมีคำถามหรือต้องการขอคำปรึกษาเกี่ยวกับข้อมูลจำเพาะ, กำหนดส่งงาน, ราคา ฯลฯ ของการรับเคลือบผิว