METASU SNV-200A1/B1

สารเคลือบเงาชุบดีบุกเงาอ่างกรดซัลฟิวริก

กระบวนการ METASUSNV-200A1/B1 เป็นสารเคลือบเงาสำหรับชุบดีบุกเงาปราศจากฟลูออบอเรท

<คุณลักษณะพิเศษ>
・สามารถใช้งานกับดีบุกบริสุทธิ์ได้
・มีประสิทธิภาพในการชุบเคลือบเงาอย่างยอดเยี่ยม สามารถใช้งานแบบ Rack, Barrel ได้
・ให้ฟิล์มเคลือบผิวชุบที่มีความเงาด้วยขอบข่ายความหนาแน่นกระแสที่มีให้เลือกอย่างหลากหลาย ・ไม่มีส่วนผสมของสารฟลูออบอเรท, ฟอร์มาลีน
・สามารถใช้งานเป็นน้ำมันเงาสำหรับชุบดีบุกกรดอินทรีย์ได้

ข้อมูลจำเพาะผลิตภัณฑ์

เงื่อนไขการใช้งาน
(มาตรฐาน)
หัวข้อ ควาเข้มข้นการเตรียมน้ำยาชุบของอ่างชุบไฟฟ้า ความเข้มข้นควบคุม
組成 กรดซัลฟิวริก 98% 184 g/L 100-250 g/L
สแตนนัส ซัลเฟต
(ดีบุกโลหะ)
20 g/L
(11 g/L)
15-25 g/L
(8-13 g/L)
METASUSNV-200A1 30 ml/L 25-35 ml/L
METASUSNV-200B1 1 ml/L 0.5-1.5 ml/L
条件 อุณหภูมิอ่าง 20℃ (10-25℃)
ความหนาแน่นกระแส 0.2-4 A/dm2
ขั้วอาโนด ดีบุกบริสุทธิ์สูง (แนะนำ 99.99 ขึ้นไป)
กวนผสม หมุนเวียนปั๊ม, รันนิ่งวัสดุ
กรอง กรองต่อเนื่องด้วยตัวกรอง 15μm

*สามารถกำหนดเงื่อนไขให้ตรงกับวิธีใช้งานได้

 ติดต่อสอบถาม

ติดต่อสอบถามเกี่ยวกับการรับเคลือบผิว

กรุณาติดต่อสอบถามเราหากท่านมีคำถามหรือต้องการขอคำปรึกษาเกี่ยวกับข้อมูลจำเพาะ, กำหนดส่งงาน, ราคา ฯลฯ ของการรับเคลือบผิว